Линия очистки воды для микроэлектроники

В конце 2017 года наша компания поставила линию очистки воды для микроэлектроники на один из закрытых подмосковных заводов. В состав линии входит следующее оборудование:

  • Насосная станция предварительного повышения давления DPS-4;Двухступенчатая система обратного осмоса для машиностроения Диасел
  • Механический дисковый предфильтр 130 мкм;
  • Два осадочных фильтра DFS 1354;
  • Два фильтра угольных DFC 1354 для удаления из воды органических загрязнений и хлора;
  • Дозация ингибитора осадкообразования (антискаланта) для установки обратного осмоса;
  • Двухступенчатая установка обратного осмоса DRO2-4040-7 с промежуточной емкостью (применение технологии двухступенчатого обратного осмоса позволяет существенно снизить затраты на замену финишных ионообменных смол (смол смешанного действия). Производительность установки по пермеату второй ступени (по очистой воде) порядка 700 л/час;
  • Накопительный бак 6000 л;
  • Насосная станция с блоком фильтров смешанного действия. В фильтрах смешанного действия загружена ионообменная смола Lewatit NM60, которая наилучшим бразом подходит для получения глубокодеминерализованной воды для электронной промышленности.

Очистка воды для микросхем

Три аналогичные системы уже ранее поставлялись на данное предприятие в разные цеха за несколько лет.

При проектироване и подборе системы очистки воды были учтены все требования и факторы получения ультрачистой воды для мироэлектроники:

План размещения станций очистки водыСистема предварительной очистки воды (осадочные и угольные фильтры, дозирование ингибитора осадкаобразования) подобрана таким образом, чтобы обеспечить бесперебойную работу всей системы водоочистки в целом с гарантированным качеством очищенной воды. Кроме того предварительная подготовка воды позмоляется снизить время межсервисных интервалов и увеличить срок службы мембранных элементов в установке обратного осмоса.

В данной системе реализованы азотозаполнение накопительных емкостей и финишная стерилизующая микрофильтрация, препятствующие посторонним загрязнениям и поподанию микроорганизмов. Это позволяет поддерживать качества ультрачистой воды не только на стадии получения, но и на стадиях хранения и раздачи потребителю.

Немаловажным фактором является полная автоматизация системы водоподготовки с полным мониторингом и контролем различных параметров на всех этапах получения ультрачистой воды.

Заявка на подбор оборудования

Наше оборудование установили