Вода для микроэлектроники предъявляет одни из самых жёстких требований по чистоте: любые примеси могут привести к браку изделий и сбоям технологического процесса. Поэтому микроэлектроника и вода всегда связаны с многоступенчатой схемой очистки, где ключевую роль играют обратный осмос, электродеионизация и финишная ионитная полировка.

Водоочистка для микроэлектроники строится так, чтобы из воды удалить не только соли и органику, но и микрочастицы, растворённые газы и микроорганизмы. Деионизованная вода в микроэлектронике должна соответствовать отраслевым стандартам (ОСТ, ASTM, SEMI) по электропроводности, содержанию органического углерода и микрочастиц, поэтому простых бытовых фильтров тут недостаточно. Используется комбинация мембранных технологий, электродеионизации и фильтров смешанного действия, что позволяет получать воду с высоким удельным сопротивлением и минимальным содержанием ионов.

Объект в г. Зеленоград: первая система

На объекте в г. Зеленоград реализована комплексная водоподготовка для микроэлектроники, в состав которой входят две независимые, но технологически схожие линии. Первая система рассчитана на более высокую производительность и обеспечивает основу для получения ультрачистой воды, используемой в ключевых производственных операциях.

На входе установлены дисковый фильтр-грязевик 2 дюйма и осадочный фильтр DFS 3672 с клапаном управления Runxin. Дисковый фильтр удаляет крупные механические частицы, защищая последующее оборудование, а осадочный фильтр обеспечивает тонкую механическую очистку, снижая мутность и содержание взвешенных веществ. Далее поток проходит через угольный фильтр DFC 3672 с клапаном Runxin, который снижает содержание хлора и органики, улучшая условия работы мембран обратного осмоса и уменьшая риск их окислительного разрушения.

Ключевое звено - установка обратного осмоса DRO2-8040-6 с блоком дозации антискаланта, блоком корректировки pH и блоком химической мойки мембран. Антискалант предотвращает образование накипи на мембранах, коррекция pH оптимизирует условия деминерализации, а система химической мойки позволяет поддерживать производительность и ресурс мембран на требуемом уровне. Две накопительные ёмкости по 3000 л с насосными станциями DPS-4 на базе двух насосов обеспечивают буферный запас и стабильную подачу воды к следующей ступени независимо от колебаний потребления.

Для доведения качества до требований микроэлектроники используется модуль электродеионизации производительностью 2000 л/ч. Электродеионизация позволяет непрерывно получать глубоко деионизованную воду без регулярной регенерации смол химическими реагентами. Завершающий этап - фильтр смешанного действия DFD 1865, который выполняет финишную деионизацию воды, удаляя остаточные ионы и обеспечивая стабильные значения электропроводности и удельного сопротивления. В результате деионизованная вода для микроэлектроники первой системы соответствует требованиям к высокочистой воде, применяемой на чувствительных участках производства.

Объект в г. Зеленоград: вторая система

Вторая система водоподготовки для микроэлектроники построена по аналогичной схеме, но рассчитана на меньшую производительность и может использоваться для других этапов технологического процесса или вспомогательных линий. Это позволяет разделить потребителей по классам чистоты воды и гибко управлять нагрузкой на оборудование.

На входе также установлен дисковый фильтр-грязевик 2 дюйма, далее следуют осадочный фильтр DFS 1465 и угольный фильтр DFC 1465, оба с клапанами управления Runxin. Эта ступень обеспечивает последовательное удаление механических примесей и хлора, защищая мембранные элементы и повышая общую надёжность системы. После предварительной очистки вода подаётся на установку обратного осмоса DRO2-4040-6, оснащённую блоком дозации антискаланта, блоком корректировки pH и блоком химической мойки мембран, что соответствует лучшим практикам водоподготовки для микроэлектроники.

Две накопительные ёмкости по 1000 л и две насосные станции DPS-3 на базе двух насосов формируют независимый контур подачи, обеспечивая стабильное давление и резервирование по насосному оборудованию. Далее поток поступает на модуль электродеионизации производительностью 440 л/ч, который снижает содержание растворённых ионов до уровней, необходимых для технологических операций с менее жёсткими требованиями или для локальных участков производства. Финальная ступень - фильтр смешанного действия DFD 1252 для финишной деионизации воды, обеспечивающий дополнительный барьер по ионам и выравнивание параметров по всей системе.

Таким образом, деионизованная вода в микроэлектронике на объекте в Зеленограде готовится по многоступенчатой схеме, включающей мембранную очистку, электродеионизацию и фильтры смешанного действия. Такое решение обеспечивает стабильное качество, соответствие отраслевым стандартам и надёжность процесса, что критично для предприятий микроэлектроники, где вода является одним из ключевых технологических ресурсов.